矽萬(上海)半導體科技有限公司
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系統使用405納米(可升級375納米)激光源在感光層上曝光,不需訂購或制作掩模,圖案可隨用戶設計而改變;
系統不使用掩模版,只需在基版上涂膠后用紫外激光聚焦進行曝光,系統的標準作業方法就像點陣打印機一次一行;
激光按設計寫入線條進行的曝光,類似激光切割機或繪圖儀工作模式,只有單點系統才能進行矢量書寫;
系統使用405納米激光源,可實現高達300納米特征尺寸。
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